8月17日消息，巴黎第一大学教授埃马纽埃尔·孔博日前发表署名文章，对美欧联合对华光刻机出口禁令的长期效果提出质疑。他认为，这套持续多年的技术封锁操作，最终非但难以遏制中国半导体产业发展，反而会让美国和欧洲自己成为最大的输家。
孔博在文中点出两个明确的受损方。第一个是欧洲。由于无条件跟随美国管制规则，欧洲相关产业主动放弃了中国市场原本极高的份额，后续产业链的营收和研发投入都将受到直接拖累。第二个是美国。虽然短期内的确拖慢了中国获取高端半导体技术的节奏，但这种极端封锁也迫使中国将全部资源集中投向自研，加速了本土全产业链的补齐和完善。
回顾整个事件脉络，从2019年起，在美国持续外交施压下，荷兰政府逐步收紧管制，最终完全禁止对华出口最先进的EUV光刻机。此后，甚至连部分性能超出普通民用标准的高端DUV设备也被纳入限制范围。作为全球光刻机龙头企业，ASML的中国业务版图因此被砍掉大半。
孔博在文章中将话题引向一个更具普遍性的问题：动用国家力量强行对一个工业大国封锁尖端技术，最终究竟是削弱其创新能力，还是反而彻底激发其内生动力，催生出原本数十年都未必能落地的成果？他援引产业发展经验指出，答案其实已经相当明确。
现实也正在印证这一判断。在层层加码的外部限制下，中国半导体行业集中力量攻坚，逐步打破海外厂商维持数十年的光刻机垄断格局，已拿出若干阶段性成果。
目前，中国虽无法采购EUV光刻机，但可通过增加DUV多重曝光工艺次数，制造制程指标接近顶尖水平的芯片。唯一的代价是良率明显低于EUV工艺。不过，既然进口高端光刻机的路径已被彻底封死，留给中国产业界的只剩一条路：不计成本投入资源，自研完全自主可控的设备。
光刻机被誉为世界上最复杂的机器之一
此前，由于ASML（阿斯麦）产品可自由进入中国市场，本土光刻机即便研发出可用产品，也难以获得足够的下游客户支持，前期研发风险极高，难以形成正向循环。但现在，整个行业的生存环境已彻底反转。
全球最强的海外竞争者已被挡在中国市场门外，本土光刻机研发企业面对的，是一个近乎被锁定的巨大国内需求市场。下游芯片厂商即使暂时承担更高的采购成本，也愿意优先支持国产设备落地迭代。
换个角度看，这些外部强加的技术出口限制，实际上等于主动为中国新兴的半导体设备产业提供了极高等级的贸易保护——只是这种保护并非本国政府主动出台，而是被美欧的管制措施硬生生倒逼出来的。
孔博的文章也给出了相对客观的阶段评估。从短期看，中国产业对全球DUV光刻机市场的冲击仍非常有限。产能爬坡需要时间，预计今年国内仅能交付数台量产国产DUV设备，到2027年全年交付量也不过二十台左右。作为对比，仅2025年一年，ASML就向全球客户交付了131台DUV设备，双方目前的产能规模差距依然悬殊。
不少行业观察人士顺着这个逻辑进一步推演：如果未来中国真的完全突破高端光刻机技术瓶颈，实现全产业链自主可控，回头看甚至可说，要间接感谢当年那套极端出口限制政策。正是这套封锁组合拳，彻底打破了国内不少企业对进口技术的依赖幻想，把中国半导体产业逼上了全面自主创新的快车道。
（智算芯能前沿网综合）
本文由智算芯能前沿网编辑整理，转载请注明出处。