蔡司集团半导体事业部负责人Frank Rohmund近日接受采访时，抛出了一个关于中国EUV光刻机时间表的判断。
他的原话是：“中国要开发出EUV光刻机，大约还需要15年。”
Rohmund特意补充了一句：这是一个合理的推测，但中国在这方面的实际进展“难以量化”。这句话的潜台词是：谁也没法真正看清中国到底走到了哪一步。
蔡司的立场：承认进展，警告制裁
作为ASML EUV光刻机光学元件的独家供应商，蔡司的立场天然带有双重性。一方面，它要维护自身技术壁垒的价值；另一方面，它又必须直面中国追赶的现实。
Rohmund在采访中承认，中国在浸润式DUV光刻机领域已取得进展。据外媒7月报道，一家总部位于上海的公司已开始制造这类设备。他表示，中国已投入相关技术研发数十年，因此近期取得进展“并不令人意外”。
但对于美国的出口管制，Rohmund的态度相当明确。他表示，若未来进一步扩大至传统DUV设备，将对产业造成重大影响。“我们不相信这些出口管制会带来正面效果，因为这反而会加速中国的创新。”说白了——制裁压力会把中国逼上技术狂奔的路。
这一判断与ASML CEO克里斯托夫·富凯此前的表态如出一辙：收紧对华出口管制，将加速中国自主研发替代设备的步伐。
技术鸿沟：从“点亮”到“商用”有多远？
2025年12月，深圳某实验室传出消息：中国首台EUV光刻机原型成功激发了13.5纳米极紫外光。这台占据整层楼的庞然大物尚未刻出芯片，却已改写了西方“中国永远造不出EUV”的断言。
但从“点亮”到“商用”，中间隔着一条深不见底的技术鸿沟。
EUV光刻机被誉为“世界上最复杂的机器”
光源系统已成功激发符合标准的极紫外光，但功率稳定性尚未达到量产要求。光学精度方面，尚未实现光束的精准投射能力——而ASML设备的套刻精度已达0.9至1.3纳米。体积更是一个直观的差距：中国原型机占据整个洁净厂房，而ASML最新机型只有公交车大小。
德国蔡司工程师曾在访谈中指出：“即便获得我们的镜片图纸，没有三十年的工艺积累也无法复制。”ASML官方回应则强调：“系统集成涉及10万多个零件协同，这需要庞大生态系统的支撑。”
量产的现实：几台与131台的距离
在EUV之外，DUV领域的量产差距更为直观。
法国巴黎第一大学教授埃马纽埃尔·孔博在分析中指出，短期来看，中国在DUV光刻机方面对ASML的挑战仍处于初期阶段：今年可能会交付几台机器，到2027年也只有20台左右；而ASML在2025年就交付了131台DUV设备。
对比之下，一边是个位数的起步，一边是百台级的成熟产能。这个差距，不是一两个技术突破就能填平的。还是古人的那句话：道阻且长，行则将至——
（智算芯能前沿网综合）
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